安徽广树半导体设备有限公司
四通道坩埚炉
四通道坩埚炉用于材料研发高通量试验，可同时进行四组样品煅烧、烧结、熔融、焙烧，适用于陶瓷、粉体、催化剂、金属试样平行对比实验。
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四通道坩埚炉基本介绍
通道坩埚炉是一种用于高温处理的实验设备，广泛应用于金属材料、电子陶瓷、粉末冶金、化合物合成等领域。该设备通过加热元件产生高温环境，能够实现对样品的烧结、熔化、热处理等操作。相比传统单通道炉体，四通道坩埚炉具有更高的效率和灵活性，适用于需要同时处理多个样品或不同工艺条件的应用场景。
四通道坩埚炉性能特点
四通道独立控制：支持4工位并行处理，提升效率。
高温性能：温度1250℃，温度均匀性±5℃。
智能控温：PID精确控温（±0.1%FS），程序升温功能。
紧凑设计：炉体尺寸600×400×700mm（长×宽×高），适配小型空间。
安全节能：纳米微孔隔热板设计，表面温度<60℃；强制风冷系统保障散热。
四通道坩埚炉技术参数
| 项目 | 参数 |
| 温度 | 1250℃ |
| 温度均匀性 | ≤±5℃（有效加热区400mm内） |
| 升温速率 | ≥10℃/min |
| 总功率 | 4kW（单通道1kW） |
| 加热元件 | Kanthal APM铁铬铝加热丝（耐1400℃） |
| 保温材料 | 氧化铝陶瓷纤维（导热系数≤0.15 W/m·K） |
| 刚玉管规格 | 内径30mm，有效加热长度400mm |
| 电源 | 220V交流供电 |
| 热电偶类型 | S型铂铑热电偶（0-1600℃） |
| 炉体尺寸 | 600×400×700mm（长×宽×高） |
四通道坩埚炉使用说明
- 安装与调试
- 将设备放置于通风良好、远离易燃物品的实验台面上。
- 接通电源，确保接地良好，避免漏电风险。
- 打开控制面板，进入温控系统设置界面，根据实验需求调整温度曲线和运行模式。
- 样品准备
- 将待处理样品放入耐高温坩埚中，确保样品重量不超过坩埚容量。
- 选择合适的坩埚材料（如氧化铝、石英等），避免与样品发生化学反应。
- 操作步骤
- 打开炉门，将装有样品的坩埚依次放入四个通道中，注意保持样品间距以防止相互干扰。
- 关闭炉门，确保密封良好。
- 启动温控系统，按照预设程序进行升温、恒温和降温操作。
- 实验完成后，待炉体冷却至室温后取出样品，避免烫伤或污染。
- 日常维护
- 定期清理炉膛内的残留物，保持炉膛清洁以延长设备寿命。
- 检查加热元件和保温材料的完好性，及时更换损坏部件。
- 保持控制面板干燥，避免液体渗入导致短路或故障。
四通道坩埚炉采购须知
- 适用场景：根据实验需求选择合适的工作温度范围和炉膛尺寸。
- 售后服务：提供一年免费保修服务，终身技术支持和维修服务。
- 定制化选项：可根据客户特殊要求进行非标设计，如增加真空系统、气氛控制系统等。
- 价格咨询：具体价格根据配置和技术参数有所不同，请联系销售人员获取详细报价。