安徽广树半导体设备有限公司
广树立式管式炉
真空管式炉用于真空 / 保护气氛下高温烧结、退火、还原、炭化，适配锂电材料、陶瓷、金属、半导体试样热处理与科研合成。
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一、广树立式管式炉基本介绍
广树立式管式炉是针对实验室工作台操作改进型产品，分体式结构大气美观，设有可通气氛功能，可以满足更多操作要求，是实验室日常使用的选择。
二、广树立式管式炉性能特点
选用优质加热丝北京首钢 HRE 材质是目前国内的加热丝，HRE 加热丝自身杂 质低、纯度高、具有电阻稳定、抗氧化耐高温等优势；加热快，温度稳定均匀度高。
外壳选用优质冷轧板+静电喷塑双层防腐工艺，双层炉壳自动风冷炉膛材质选用多晶 氧化铝陶瓷纤维一体成型，具有硬度大、重量轻、耐磨性好、高温情况下不易断裂等特点，保温效率高。
三、广树立式管式炉技术参数
工作尺寸 ：φ30*500mm
外形尺寸 ：φ352*1054mm
工作温度： ≤1200℃
电源电压： 单相220V
功率： 2KW
加热方式： 360度面加热
控制精度: ±1℃
均匀度：±5℃
升温速度： 升温到 1200℃ 10-30 分钟
加热原件：北京首钢HRE加热丝，耐腐蚀耐高温
温控仪： PID 智能控制，升温降温保温时间可自由设定
控制器：固态继电器，控制加热功率，确保温度精度
安全装置： 过流、过压、保护系统，断丝断偶保护机制
炉壳：优质冷轧板 + 静电喷塑双层防腐工艺，双层炉壳自动风冷