安徽广树半导体设备有限公司





广树1800℃真空气氛马弗炉
气氛炉用于可控气氛下高温热处理,可防氧化脱碳:金属光亮退火、粉末冶金烧结、特种陶瓷烧制、锂电 / 半导体材料合成、航空合金热处理、高校新材料研发,适配氮气 / 氩气 / 氢气 / 真空多种工况。
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一、基本功能与适用场景
1800℃真空气氛马弗炉是一种高温实验设备,能够在真空或惰性气氛(如氩气、氮气)环境下实现准确的温度控制。其主要功能包括:
- 材料合成:适用于陶瓷、金属氧化物、复合材料等的高温烧结与合成。
- 热处理:用于电子元件、半导体材料的高温退火或钝化处理。
- 气氛实验:在惰性气氛中进行高温反应,避免样品氧化。
该设备广泛应用于高校实验室、科研机构及工业生产领域,是材料科学、化学工程和电子制造等行业的重要工具。
二、主要技术参数
产品型号:GSL-3-1750
工作尺寸 :300*200*200 mm(深宽高)
外形尺寸:1000*1050*870 mm(深宽高)
工作温度:≤1750℃
电源电压:单两相 380 V
功率:10KW
加热方式: 左右两加热,提高炉温均匀度
控制精度 : ±1℃
均匀度 : ± 5 ℃
保温材料: 多层复合型保温结构,内层 1500 型多晶氧化铝陶瓷纤维,外层轻型保温纤维板
加热丝:硅钼棒加热丝,耐腐蚀耐高温
温控仪:PID 智能控制,升温降温保温时间可自由设定
控制器:晶闸管可控硅,控制加热功率,确保温度精度
安全装置:过流、过压、保护系统,断丝断偶保护机制
炉壳: 优质冷轧板 + 静电喷塑双层防腐工艺,双层炉壳自动风冷
三、性能特点
高温性能采用优质钼丝或石墨加热元件,工作温度可达1800℃,满足极端高温实验需求。
- 真空气氛环境配备真空泵和惰性气体循环系统,可实现真空度≤1×10 3 Pa,或在氩气、氮气等惰性气氛中进行实验,有效防止样品氧化。
- 温控系统采用PID智能温控技术,控温精 度可达±1℃,并支持程序升温、恒温和降温功能,满足复杂实验需求。
- 高效隔热设计炉体采用多层隔热结构,配备高品质硅酸铝纤维保温材料,大幅降低热损耗,提升能效比。
- 多样化炉膛材料选择根据实验需求,可选配石英、刚玉或碳化硅炉膛,适用于不同类型的高温实验。
- 安全可靠配备过温保护、断电保护和漏气报警功能,确保设备运行安全。
四、使用说明
- 开机准备
- 检查真空泵和惰性气体循环系统是否正常运行。
- 根据实验需求选择炉膛材料并安装样品。
- 程序设置
- 通过触摸屏或上位机软件设置升温曲线(包括升温速率、恒温时间等)。
- 实验过程
- 启动设备,系统将自动按照预设程序进行升温、恒温和降温操作。
- 安全注意事项
- 实验结束后,待炉体冷却至室温后方可打开炉门。
- 定期检查真空泵和加热元件的使用状态,确保设备长期稳定运行。